上海2016年2月15日電 /美通社/ -- 美國佛羅里達州的拉哥于2016年2月2日傳來消息，英國豪邁的電子光學品牌PIXELTEQ（pixelteq.com）推出了縮微成像濾光器，其縮微成像光學涂層結合了顯微光刻法專利技術和最先進的涂層專利技術，幫助創(chuàng)造了簡便且具有性價比的光學設備，可應用于生物醫(yī)學、安防、航空航天、精細農(nóng)業(yè)和機器視覺等領域。

PIXELTEQ公司的技術使多個電介質(zhì)、金屬和顏料的圖案結構能在單一基質(zhì)上獲得濾波陣列涂層。到位的標準化流程為模仿玻璃和半導體晶片奠定基礎，且優(yōu)化了PIXELTEQ獲取客戶需求的流程、減少了產(chǎn)品投放市場的時間。該公司的高技術性能使其產(chǎn)品可以滿足各種市場需求，不管是高精準度、低容量的裝置還是高容量的消費者導向產(chǎn)品。

PIXELTEQ公司的營銷和銷售副總裁馬爾科 史尼克斯（Marco Snikkers）說：“憑借數(shù)十年的經(jīng)驗和努力，我們的專利薄膜涂層流程不斷完善。我們能肯定我們是唯一只專注于縮微成像技術的光電公司”。

去年，PIXELTEQ公司花費了數(shù)百萬美元用于發(fā)展并升級了生產(chǎn)設施，其縮微成像濾光器的產(chǎn)出已翻兩倍。到目前為止，PIXELTEQ是全球市場上專注于縮微成像技術性能的唯一光電企業(yè)。